Add external model persistence foundation

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@@ -500,8 +500,20 @@ einschließlich BOM, CRLF und Quotierung bytegleich zurück. Der lokale Befehl
 je Projekt. `external-csv-configuration.update` schreibt Anlage, Änderung oder
 Entfernung zusammen mit Revision und persistentem Undo/Redo. Snapshot-Schema 3,
 Restore und portabler Projekttransfer enthalten diesen Zustand; beim Duplizieren
-werden Konfigurations-UUID und Projektlink remapped. Persistente externe Objekte
-und die bestätigte Importübernahme sind noch nicht implementiert.
+werden Konfigurations-UUID und Projektlink remapped.
+
+Migration `0003` ergänzt die relationale Grundlage für genau eine implizite
+`revit_csv`-Quelle je Projekt, geordnete Importbatches, normalisierte
+Quellraummappings und über `(sourceId, ifcGuid)` eindeutige externe Objekte.
+Batches halten Konfigurationssnapshot, Originalbytes und die klassifizierte
+Zellmatrix zusammen. Quellwerte, lokale Planungswerte und Override-Metadaten
+der Objekte sind getrennt; optionale Links auf Raum, Verteilung, ProjectDevice
+und CircuitDeviceRow bleiben nullable. `ExternalModelStateRepository` liest den
+vollständigen Zustand deterministisch und unterscheidet unbekannte von noch
+nicht importierten Projekten. Der letzte bestätigte Batch wird aus der
+Batchreihenfolge abgeleitet statt redundant an der Quelle gespeichert.
+Snapshot/Transfer v4, Import-Command und bestätigte Importübernahme sind noch
+nicht implementiert; bloße Vorschau erzeugt weiterhin keine dieser Zeilen.
 `GET` und `PUT /api/projects/:projectId/external-csv/configuration` lesen oder
 ändern die Konfiguration; der PUT plant Identität und nächsten
 Konfigurationsstand serverseitig und verwendet den typisierten Command.
@@ -519,7 +531,8 @@ Response verfügbar, ohne alle Zeilen in den DOM einzufügen.
 ## Noch nicht unterstützt
 
 - Mehrbenutzerbetrieb und Konfliktauflösung
-- vollständiger Revit-/CSV-/IFCGUID-Round-trip über die vorhandene Grundlage hinaus
+- bestätigter Revit-Erstimport und vollständiger CSV-/IFCGUID-Round-trip über
+  die vorhandene Transport- und Persistenzgrundlage hinaus
 - vollständige elektrische Dimensionierung
 - Produktionsdeployment